本報訊 近日，市場監(jiān)管總局批準新建二維線紋基準裝置，填補我國校準影像測量儀、光學顯微鏡等光學精密測量設(shè)備和高精度光刻機母版制造設(shè)備的二維線紋標準器的測量能力空白，實現(xiàn)核心技術(shù)完全自主可控。
　　二維線紋基準裝置測量范圍為320mm×320mm，最優(yōu)測量不確定度僅28nm，相當于頭發(fā)絲直徑的二千五百分之一。該基準裝置主要特點是大范圍、微尺寸、多參量，可為二維尺寸、位置及形狀提供量值溯源，達到國際先進水平。該基準裝置有助于解決亞微米、納米級光刻機母版的二維線紋“測不準”難題，為電子通信、軌道交通、航空航天、醫(yī)療設(shè)備等高端制造領(lǐng)域精密加工和測量設(shè)備提供技術(shù)支撐和保障。

□夏 淵